理湃光晶通过知识产权管理体系认证

近日，上海理湃光晶技术有限公司通过国家认监委审核的知识产权管理体系认证，获得了由权威认证机构“北京万坤”颁发的知识产权管理体系认证证书。

本项知识产权管理体系认证，符合国家标准GB/T29490-2013，是对理湃光晶在AR光学模组的研发和销售领域的知识产权管理系统和相关工作的认可和肯定。

GB/T29490-2013标准，是我国现行的企业知识产权管理规范，是在《国家知识产权战略发展纲要》颁布的大背景下，我国知识产权管理工作的一个具有前瞻性的创举。该标准将知识产权管理作为一个完整的企业管理体系，规范了企业对策划、实施、检查、改进知识产权管理体系的要求。

通过本次知识产权管理体系认证后，理湃光晶将持续以知识产权管理作为公司的经营战略方针，全面规范和完善知识产权管理制度和体系，积极支持和激励员工发明创新，不断强化公司知识产权资产的创造、运用、管理和维护，进而全方位夯实企业的技术壁垒，综合性提升企业的核心竞争力。

理湃光晶一直以来重视技术创新和产品研发，十分注重知识产权对企业发展的推动作用，持续加强知识产权管理工作。以相关技术发展趋势和交叉学科技术拓展等多方面开展知识产权分析和布局，建立完善的知识产权管理制度和体系，周期性对各层级员工组织知识产权培训，支持和激励员工发掘和申请相应知识产权成果。

理湃光晶在几何光学、微显示技术、光波导成像等相关技术领域获得丰富的知识产权积累，是国内领先的拥有几何光波导核心知识产权的创新企业，已申请光波导相关核心技术专利数十项。近期，理湃光晶“二维扩瞳”的多项核心专利获得了国家知识产权局的授权。

理湃光晶将以全员创新为目标，在AR技术创新和智能显示器件领域持续开发知识产权成果，聚焦AR光学显示领域，致力于打造全球领先的AR光学公司。

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